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面向流场密度观测的聚焦纹影参数分析与光学设计-光学精密工程2026年14期

面向流场密度观测的聚焦纹影参数分析与光学设计

作者: 张战飞 ,郝歌扬 ,支冬 ,孔荣宗 ,胡守超 ,吴国俊 ,黄龙 字体:      

中图分类号:O439;V211.752 文献标识码:A

doi:10.37188/OPE.20263414.2125 CSTR:32169.14.OPE.20263414.2125

Focusing schlieren parameter analysis and optical design for flow field density observation

Z(试读)...

光学精密工程

2026年第14期